[发明专利]采用放大自发辐射光源测试光学元件损伤阈值装置和方法无效

专利信息
申请号: 201310422557.X 申请日: 2013-09-16
公开(公告)号: CN104062299A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 周琼;庄亦飞;冯滔;朱健强 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种采用放大自发辐射光源测试光学元件损伤阈值装置和方法,该测试装置包括ASE光源、能量衰减器、λ/2波片、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第一平凸透镜、平凹透镜、楔形取样镜、供待测光学元件设置的样品平台、小孔光阑、第二平凸透镜、能量计、CCD探测器和计算机,本发明能减少辐照光源由于光束的干涉和衍射造成的光场起伏,能够准确评估光学元件表面的损伤阈值。
搜索关键词: 采用 放大 自发辐射 光源 测试 光学 元件 损伤 阈值 装置 方法
【主权项】:
一种采用放大自发辐射光源测试光学元件损伤阈值装置,特征在于该装置包括ASE光源(1)、能量衰减器(2)、λ/2波片(3)、第一反射镜(4)、第二反射镜(5)、第三反射镜(6)、第四反射镜(7)、第一平凸透镜(8)、平凹透镜(9)、楔形取样镜(10)、供待测光学元件设置的样品平台(11)、小孔光阑(12)、第二平凸透镜(13)、能量计(14)、CCD探测器(15)和计算机(16),沿所述的ASE光源(1)的激光输出方向依次是所述的能量衰减器(2)、λ/2波片(3)、第一高反镜(4)、第四高反镜(7)、第一平凸透镜(8)、平凹透镜(9)、楔形取样镜(10)和待测光学元件,在所述的楔形取样镜(10)的反射光方向分别设有第二高反镜(5)和第三高反镜(6),在第二高反镜(5)的反射光方向是所述的CCD探测器(15),在第三高反镜(6)的反射光方向依次是所述的小孔光阑(12)、第二平凸透镜(13)和能量计(14),所述的计算机(16)的输出端与所述的样品平台(11)的控制端相连,所述的CCD探测器(15)的输出端与所述的计算机(16)的第一输入端相连,所述的能量计(14)的输出端与所述的计算机(16)的第二输入端相连,所述的计算机(16)具有采集光场分布和光束能量的软件以及控制样品平台(11)的驱动软件。
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