[发明专利]Al或Al合金有效
| 申请号： | 201310424558.8 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103540987B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 久本淳;和田浩司 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 王玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有阳极氧化膜的Al或Al合金，所述阳极氧化膜在其厚度方向具有硬度不同的部位，其中的硬度最大部位的硬度与硬度最小部位的硬度的差以维氏硬度计为5以上。优选所述Al或Al合金的硬度最小部位的硬度以维氏硬度计为300以上。另外，优选所述Al或Al合金的阳极氧化膜的Fe含量500ppm以下。本发明的Al或Al合金即使为高硬度，仍具有耐裂纹性优异的阳极氧化膜。 | ||
| 搜索关键词： | al 合金 | ||
【主权项】：
一种Al或Al合金，具有针对贯通到阳极氧化皮膜表面的裂纹的耐裂纹性优异的阳极氧化膜，其特征在于，所述阳极氧化膜由两层构成，在其厚度方向上具有硬度不同的部位，其中，所述阳极氧化膜表面侧的第2层的硬度比基材侧的第1层高，该第2层的硬度与第1层的硬度差以维氏硬度计为15以上30以下，并且，所述阳极氧化膜中的Fe含量为500ppm以下，所述Al或Al合金被用于半导体和液晶的制造装置的真空室的构件和设于其内部的构件，其中，在贯通到阳极氧化皮膜表面的裂纹密度D＜1mm/mm2时，评价为耐裂纹性优异。
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