[发明专利]一种制备具有八面体结构的In2S3薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201310426847.1 申请日: 2013-09-18
公开(公告)号: CN103466690A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 陈飞;雷引林;罗云杰;陈珏 申请(专利权)人: 浙江大学宁波理工学院
主分类号: C01G15/00 分类号: C01G15/00;B82Y40/00;C23C18/12
代理公司: 宁波市天晟知识产权代理有限公司 33219 代理人: 张文忠
地址: 315100 浙江省宁波市高教园区钱*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种制备具有八面体结构的In2S3薄膜的方法,包括以下步骤:步骤一、将透明导电基片洗净去油污,并在丙酮、乙醇和去离子水中分别进行超声处理,超声处理后将导电基片烘干;步骤二、将含铟前驱体、含硫前驱体和有机配体溶于水中制得溶液,有机配体为半胱氨酸和还原谷胱甘肽的混合物;步骤三、将步骤一中烘干的导电基片置入步骤二中制得的溶液中并加热,反应完全后,用水冲洗导电基片,制得具有八面体结构的In2S3薄膜。本发明的In2S3薄膜的制备方法,工艺简单,生产成本低,制得的In2S3薄膜具有八面体结构,且八面体结构的大小可调,采用的导电基片是透明的导电基片,适于直接制备电子器件,容易被推广应用。
搜索关键词: 一种 制备 具有 八面体 结构 in2s3 薄膜 方法
【主权项】:
一种制备具有八面体结构的In2S3薄膜的方法,其特征是:具体步骤如下:步骤一、将透明导电基片洗净去油污,并在丙酮、乙醇和去离子水中分别进行超声处理,超声处理后将导电基片烘干;步骤二、将含铟前驱体、含硫前驱体和有机配体溶于水中制得溶液,所述的有机配体为半胱氨酸和还原谷胱甘肽的混合物;步骤三、将步骤一中烘干的导电基片置入步骤二中制得的溶液中并加热,反应完全后,用水冲洗导电基片,制得具有八面体结构的In2S3薄膜。
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