[发明专利]一种产生均整X射线辐射场的装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201310433778.7 申请日: 2013-09-23
公开(公告)号: CN104470179B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 康克军;唐传祥;唐华平;陈怀璧;黄文会 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司
主分类号: H05G1/52 分类号: H05G1/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 闫小龙,胡莉莉
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种产生均整X射线辐射场的装置以及方法。本发明的产生均整X射线辐射场的装置具备多个电子加速器,用于产生高能电子束流;以及公共靶单元,包括真空靶室、靶以及多个输入连接装置,所述多个输入连接装置安装在所述真空靶室的一侧,所述靶安装在所述真空靶室的与所述多个输入连接装置相对的另一侧,所述多个输入连接装置的轴线以两两彼此成预定夹角的方式相交于一点,所述多个电子加速器分别与所述多个输入连接装置连接。
搜索关键词: 一种 产生 射线 辐射 装置 以及 方法
【主权项】:
一种产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,具备:多个电子加速器,用于产生高能电子束流;以及公共靶单元,包括真空靶室、靶以及多个输入连接装置,所述多个电子加速器分别与所述多个输入连接装置连接,来自所述多个电子加速器的高能电子束流以两两彼此成预定夹角的方式轰击所述靶。
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