[发明专利]气孔分布均匀、低介电损耗多孔铁电陶瓷及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310442312.3 申请日: 2013-09-24
公开(公告)号: CN103553600A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 聂恒昌;董显林;陈学锋;王根水 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/491 分类号: C04B35/491;C04B38/06;C04B35/622
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及气孔分布均匀、低介电损耗多孔铁电陶瓷及其制备方法,所述多孔铁电陶瓷的化学组成通式为Pb(ZrxTi1-x)O3,其中0.9≤x≤0.97,所述铁电陶瓷的气孔分布均匀不团聚,气孔大小为5~120μm,孔隙率为5~20%,介电损耗常数为1.5~1.8%。本发明的多孔锆钛酸铅铁电陶瓷气孔分布均匀不团聚,介电损耗低,电阻率、纵向压电常数和断裂韧性均与致密陶瓷性能相当。而且与致密的PZT铁电陶瓷相比,本发明的多孔PZT铁电陶瓷抗冲击性能更高、铁电-反铁电相变压力更低、与封装材料的阻抗匹配更好等优点,有利于铁电脉冲电源的可靠性。
搜索关键词: 气孔 分布 均匀 低介电 损耗 多孔 陶瓷 及其 制备 方法
【主权项】:
一种气孔分布均匀、低介电损耗的多孔锆钛酸铅陶瓷,其特征在于,所述铁电陶瓷的化学组成通式为Pb(ZrxTi1‑x)O3,其中0.9≤x≤0.97,所述铁电陶瓷的气孔分布均匀不团聚,气孔大小为5~120μm,孔隙率为5~20%,介电损耗常数为1.5~1.8%。
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