[发明专利]一种纳米压印光刻装置及其方法有效
| 申请号： | 201310447608.4 | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103488046B | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 袁伟 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种纳米压印光刻装置，用于对表面涂有电感性光刻胶的衬底进行光刻，包括：模板基板、压印模板和电子源；压印模板具有导电性，位于模板基板的表面上，与衬底上的光刻胶面相向设置，压印模板具有与形成目标图案的反向凹凸图案，与被刻衬底上的电感光刻胶接触；电子源为压印模板中凹凸图案提供电子流；其中，当压印模板上的凸图案与被刻衬底上的电感光刻胶接触时，凸图案上的电子流对电感性光刻胶进行图像化感光。本发明是结合纳米压印技术和电子束曝光技术的优点，使得其具有高度工艺兼容性，提高对准和套刻精度，能更好的控制缺陷，从而获得更高的产率和分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 光刻 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印光刻装置，用于对表面涂有电感性光刻胶的衬底进行光刻，包括：模板基板；其特征在于，还包括：压印模板，具有导电性，位于所述模板基板的表面上，所述压印模板表面与衬底上的光刻胶面相向设置，所述压印模板具有与形成目标图案的反向凹凸图案，与所述被刻衬底上的电感性光刻胶接触；电子源，为所述压印模板中凹凸图案提供电子流；其中，当所述压印模板上的凸图案与所述被刻衬底上的电感性光刻胶接触时，凸图案上的所述电子流对所述电感性光刻胶进行图像化感光。
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