[发明专利]一种皮秒激光蚀刻微型电路工艺

摘要

本发明涉及微型电路板技术领域，具体涉及一种皮秒激光蚀刻微型电路工艺，包括如下步骤：A、将表面依次印刷有陶瓷膜基底和金属导电膜层的PET膜正面朝上固定在激光刻蚀机的工作平台上，调整激光刻蚀机与工作平台的相对位置或激光刻蚀机的激光头的高度，使激光刻蚀机的激光焦点落在基底的正上方；B、将要刻蚀的导电膜图形和陶瓷膜图形分别导出并输入激光刻蚀机，并作为两个图层；分别对导电膜图形图层和陶瓷膜图形图层设置激光参数和运动参数；C、启动激光刻蚀机，对基底的导电膜图形图层和陶瓷膜图形图层分别进行刻蚀，制得微型电路板。本发明的工艺能够满足微型电路板表面高精度、高密度布线，可以一次完成陶瓷膜和导电膜的刻蚀，成本低。

主权项

一种皮秒激光蚀刻微型电路工艺，其特征在于：包括如下步骤：A、将表面依次印刷有陶瓷膜基底和金属导电膜层的PET膜正面朝上固定在激光刻蚀机的工作平台上，调整激光刻蚀机与工作平台的相对位置或激光刻蚀机的激光头的高度，使激光刻蚀机的激光焦点落在基底的正上方；B、将要刻蚀的导电膜图形和陶瓷膜图形分别导出并输入激光刻蚀机，并作为两个图层；分别对导电膜图形图层和陶瓷膜图形图层设置激光参数和运动参数；C、启动激光刻蚀机，对基底的导电膜图形图层和陶瓷膜图形图层分别进行刻蚀，制得微型电路板；其中，所述激光刻蚀机为皮秒激光刻蚀机；所述导电膜图形图层的激光参数和运动参数设置为：激光功率为12~100W，激光脉冲频率为200~1000KHz，激光脉冲宽度为8~15ps，激光刻蚀线速度为2000~3000mm/s，刻蚀重复次数为2~3次；所述陶瓷膜图形图层的激光参数和运动参数设置为：激光功率为12~100W，激光脉冲频率为200~1000KHz，激光脉冲宽度为8~15ps，激光刻蚀线速度为200~3000mm/s，刻蚀重复次数为1~2次。