[发明专利]干法刻蚀设备及刻蚀方法有效
| 申请号： | 201310450519.5 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103474322A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 赵超超;徐跃鸿;石建东 | 申请（专利权）人： | 广东尚能光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;G02B6/136 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 张约宗;张秋红 |
| 地址： | 528251 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种干法刻蚀设备及刻蚀方法，涉及刻蚀设备技术领域。本发明干法刻蚀设备包括用于放置至少一个被刻蚀件的托盘、用于对所述至少一个被刻蚀件进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘的壳体以及与所示壳体相连接的真空发生器，所述托盘上安装有至少一组用于限定所述至少一个被刻蚀件位置的限位销。由于本发明干法刻蚀设备中的托盘通过限位销对被刻蚀件进行限位，延长了托盘的使用寿命；并且消除了传统方法中托盘凹槽加深需再加工的缺陷，降低了工程成本。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种干法刻蚀设备，包括用于放置至少一个被刻蚀件（3）的托盘（1）、用于对所述至少一个被刻蚀件（3）进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘（1）的壳体以及与所述壳体相连接的真空发生器，其特征在于，所述托盘（1）上安装有至少一组用于限定所述至少一个被刻蚀件（3）的限位销（2）。
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