[发明专利]磁头、磁记录再现装置及磁头的制造方法在审
申请号: | 201310461793.2 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN104240722A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 竹尾昭彦;柏木一仁;山田健一郎;鸿井克彦;船山知己 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明难以因再现的盘半径位置的不同而使再现信号的轨道间干扰量变化。根据实施方式,一种磁头,具备:第一再现元件;第一磁性膜,其在所述第一再现元件的第一侧壁隔着第一侧壁绝缘膜而形成;第二磁性膜,其在与所述第一侧壁相对的第一再现元件的第二侧壁隔着第二侧壁绝缘膜而形成;第二再现元件,其与所述第一再现元件电绝缘且在所述第一磁性膜上形成;第三磁性膜,其在所述第一磁性膜上形成;和第四磁性膜,其与所述第二再现元件电绝缘且在所述第一再现元件上形成。 | ||
搜索关键词: | 磁头 记录 再现 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种磁头,其特征在于,具备:第一再现元件;第一磁性膜,其在所述第一再现元件的第一侧壁隔着第一侧壁绝缘膜而形成;第二磁性膜,其在与所述第一侧壁相对的第一再现元件的第二侧壁隔着第二侧壁绝缘膜而形成;第二再现元件,其与所述第一再现元件电绝缘且在所述第一磁性膜上形成;第三磁性膜,其在所述第一磁性膜上形成;和第四磁性膜,其与所述第二再现元件电绝缘且在所述第一再现元件上形成。
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