[发明专利]一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃及其制备方法有效
| 申请号： | 201310467048.9 | 申请日： | 2013-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN103539365A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 俞其兵;葛文耀;候英兰;刘静维;郑志勇;周霞;刘四清;李刚;吴万成;范健 | 申请（专利权）人： | 河源旗滨硅业有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人： | 李彦孚 |
| 地址： | 517500*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃及其制备方法，属于玻璃镀膜技术领域，为了克服现有镀膜玻璃存在的缺陷，通过改进玻璃膜层组合设计，在其普通浮法玻璃基片上依次镀掺碳氧化硅层、掺锑氧化锡层、掺氟氧化锡层、掺磷氧化钛层；通过上述膜层的有效组合匹配，使得该镀膜玻璃具有如下优点：镀膜玻璃的整体雾度小而容易控制；可见光反射率在可接受的范围内，不会导致光反射污染；太阳得热系数≤0.5，可见光透过率≥45%，辐射率≤0.20的性能完美结合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 阳光 控制 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于有依次镀在普通浮法玻璃基片上的掺碳氧化硅层、掺锑氧化锡层、掺氟氧化锡层、掺磷氧化钛层；其中，掺碳氧化硅层的厚度在50~100nm之间，折射率在1.5~1.8之间；掺锑氧化锡层的厚度在85~160nm之间，膜层中锑和锡的摩尔比是0.05~0.15；掺氟的氧化锡层的厚度在330‑350之间；掺磷氧化钛层的厚度在20~40nm之间。
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