[发明专利]一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法有效

专利信息
申请号: 201310468042.3 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN103553043A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 欧阳海波;李翠艳;黄剑锋;曹丽云;殷立雄;费杰 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,将碳微球与二氧化硅微球混合均匀,得到混合粉末;其中碳微球粒径为200~400nm,与二氧化硅微球的粒径为100~200nm;将混合粉末放入真空烧结炉中,将真空烧结炉抽真空后通入氩气,并在氩气保护下自室温升温至1200℃时将真空烧结炉抽真空,然后继续升温至1300℃~1500℃,在1300℃~1500℃下烧结,得到产物;将产物在400-600℃下煅烧,得到高比表面积SiC纳米微球。本发明操作简单,成本低廉,可重复性好,有利于工业化生产。本发明所制得的SiC纳米微球的粒度均匀,纯度高,直径在200~500nm范围内可控,比表面积可以达到25~60m2/g。
搜索关键词: 一种 制备 表面积 sic 纳米 方法
【主权项】:
一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将碳微球与二氧化硅微球按质量比(1:1)~(2:1)混合均匀,得到混合粉末;其中碳微球粒径为200~400nm,与二氧化硅微球的粒径为100~200nm;2)将混合粉末放入真空烧结炉中,将真空烧结炉抽真空后通入氩气,并在氩气保护下自室温升温至1200℃时将真空烧结炉抽真空,然后继续升温至1300℃~1500℃,在1300℃~1500℃下烧结,然后自然降温至室温,得到产物;3)将产物在400‑600℃下煅烧,自然冷却至室温,得到高比表面积SiC纳米微球。
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