[发明专利]以四氟化硅和氮气生产氮化硅和三氟化氮的设备及工艺

摘要

本发明公开了以四氟化硅和氮气生产氮化硅和三氟化氮的设备和工艺，设备包括等离子体发生器、等离子体反应器、冷却室、气固分离室、三氟化氮精制装置；等离子体发生器与等离子体反应器相连通，等离子体反应器的出料口与冷却室的进料口相连通，冷却室还设有低温氮气输入口，冷却室的出料口与气固分离室的进料口相连通，气固分离室的气相出料口与三氟化氮精制装置的进料口相连通，气固分离室的固相出料口为氮化硅排出口，三氟化氮精制装置设有三氟化氮排出口和废气排出口。本发明工艺路线新颖、合理，装备要求低，反应安全、容易实现工业化的低能耗生产，生产的氮化硅和三氟化氮纯度高；实现废物的高附加值利用，具有环保和经济双重效益。

主权项

以四氟化硅和氮气生产氮化硅和三氟化氮的设备，其特征在于，包括等离子体发生器、等离子体反应器、冷却室、气固分离室、三氟化氮精制装置；所述等离子体发生器与等离子体反应器相连通，所述等离子体反应器的出料口与冷却室的进料口相连通，所述冷却室还设有低温氮气输入口，所述冷却室的出料口与气固分离室的进料口相连通，所述气固分离室的气相出料口与三氟化氮精制装置的进料口相连通，所述气固分离室的固相出料口为氮化硅排出口，所述三氟化氮精制装置设有三氟化氮排出口和废气排出口。