[发明专利]电子器件、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供电子器件和显示装置的制造方法、光掩模及其制造方法，能够减小不同层彼此之间的对准误差。电子器件的制造方法的特征在于，具有以下工序第1薄膜图案形成工序，在基板上实施使用了第1光掩模的第1光刻工序；以及第2薄膜图案形成工序，实施使用了第2光掩模的第2光刻工序，所述第1光掩模和所述第2光掩模具有包含透光部、遮光部和半透光部的第1转印用图案，并且所述第2光掩模与所述第1光掩模是同一光掩模，或者所述第2光掩模是具有对所述第1光掩模具有的所述第1转印用图案实施追加加工而形成的第2转印用图案的光掩模。

主权项

一种电子器件的制造方法，该电子器件具有第1薄膜图案和第2薄膜图案的层叠构造，其特征在于，具有以下工序：第1薄膜图案形成工序，对形成在基板上的第1薄膜、或形成在所述第1薄膜上的第1抗蚀剂膜实施包含使用了第1光掩模的第1曝光的第1光刻工序，由此对所述第1薄膜进行构图；以及第2薄膜图案形成工序，对形成在所述基板上的所述第2薄膜、或形成在所述第2薄膜上的第2抗蚀剂膜实施包含使用了第2光掩模的第2曝光的第2光刻工序，由此将所述第2薄膜构图为与所述第1薄膜图案不同的形状，其中，所述第1光掩模和所述第2光掩模分别具有通过1次描绘工序划定的第1转印用图案和第2转印用图案，所述第1光掩模包含遮光部和半透光部，或者包含透光部、遮光部和半透光部，所述第2光掩模包含透光部、遮光部和半透光部，并且，所述第2光掩模与所述第1光掩模是同一光掩模，或者所述第2光掩模是具有对所述第1光掩模具有的所述第1转印用图案实施追加加工而形成的第2转印用图案的光掩模。