[发明专利]校准装置、校准方法和测量装置无效
| 申请号： | 201310483271.2 | 申请日： | 2013-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN103727892A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 林直人 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了校准装置、校准方法和测量装置。本发明提供了用于校准光学装置的校准装置，所述光学装置具有扫描部件并且通过旋转扫描部件来在物体上扫描光，所述校准装置包括：靶部件，包括被来自扫描部件的光照射的区域；取得单元，被配置成取得被所述区域反射的光的光量；以及处理单元，被配置成执行用于计算校准扫描部件的旋转角度所需的校准值的处理，其中，所述区域被配置成非平面的以使得通过取得单元取得的光量根据光照射位置而改变。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 装置 方法 测量 | ||
【主权项】：
一种用于校准光学装置的校准装置，所述光学装置具有扫描部件并且通过旋转扫描部件来在物体上扫描光，所述校准装置包括：靶部件，包括被来自扫描部件的光照射的区域；取得单元，被配置成取得被所述区域反射的光的光量；以及处理单元，被配置成执行用于计算校准扫描部件的旋转角度所需的校准值的处理，其中，所述区域被配置成非平面的以使得通过取得单元取得的光量根据光照射位置而改变，并且处理单元执行：第一处理，用于在扫描部件被旋转以用光照射所述区域的基准位置的状态中，通过取得单元取得被所述区域反射的光的光量；第二处理，用于基于在第一处理中取得的光量，计算在第一处理中所述区域被光实际照射的实际照射位置；以及第三处理，用于根据在第二处理中计算的实际照射位置和所述区域的基准位置，计算校准值。
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