[发明专利]一种CuO/CoTiO3复合气敏薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310485315.5 申请日: 2013-10-16
公开(公告)号: CN103572232A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 卢靖;张亚宾;黄剑锋;曹丽云 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种CuO/CoTiO3复合气敏薄膜的制备方法,将TiO2靶材和Co3O4靶材分别放入磁控溅射仪的两个射频靶位中,将Cu靶放入直流溅射靶位;将Si基片放入磁控溅射仪的镀膜样品台上,通过真空系统将镀膜室和样品室内抽真空,并向镀膜室通入Ar气,使镀膜室和样品室内压强为0.2Pa-2Pa;设置两射频靶电源功率为100-400W,并且使溅射出的Ti,Co原子摩尔比为1︰0.5-2,同时调节直流靶功率为20W-200W,溅射10min-90min后将溅射得到的前驱体薄膜放入马弗炉中控制煅烧温度在300℃-700℃,煅烧0.5h-3h,随炉冷却得到最终产物。本发明通过降低“吸附”与“氧化还原反应”两个环节的活化能来实现半导体室温气敏性。这种方法反应效率高,成膜性好。
搜索关键词: 一种 cuo cotio sub 复合 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种CuO/CoTiO3复合气敏薄膜的制备方法,其特征在于:1)以分析纯的TiO2和Co3O4为原料,分别与粘结剂混合,在50MPa‑100MPa,200℃‑700℃下预烧,制备出TiO2靶材和Co3O4靶材,并将TiO2靶材和Co3O4靶材分别放入磁控溅射仪的两个射频靶位中,将纯度为99.99%的Cu靶放入直流溅射靶位;2)将干净的Si基片放入磁控溅射仪的镀膜样品台上,通过真空系统将镀膜室和样品室内抽真空,当真空度达到1.0×10‑4Pa‑9.9×10‑4Pa时,镀膜室通入Ar气,控制Ar气流量在10sccm‑30sccm,使镀膜室和样品室内压强为0.2Pa‑2Pa;3)设置两射频靶电源功率为100‑400W,并且使溅射出的Ti,Co原子摩尔比为1︰(0.5‑2),同时调节直流靶功率为20W‑200W,溅射10min‑90min后将溅射得到的前驱体薄膜放入马弗炉中控制煅烧温度在300℃‑700℃,煅烧0.5h‑3h,随炉冷却得到最终产物。
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