[发明专利]沉积设备及将沉积材料沉积在基板上的方法有效
| 申请号： | 201310486450.1 | 申请日： | 2013-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN103882381B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 金元容;全镇弘 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 刘奕晴,韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种沉积设备以及将沉积材料沉积在基板上的方法，该沉积设备包括真空室；基板，设置在真空室中；沉积源，设置在真空室中并且面对基板，用于将沉积材料提供到基板上；激光振荡器，产生第一激光束；光学单元，连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中，以被设置在基板和沉积源之间。与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 材料 基板上 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积设备，所述沉积设备包括：真空室；基板，设置在真空室中；沉积源，设置在真空室中并且面对基板，用于将沉积材料提供到基板上；激光振荡器，产生第一激光束；以及光学单元，连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束，其中，掩模激光束照射到真空室中以被设置在基板和沉积源之间，与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上，其中，掩模激光束用作执行沉积工艺的掩模。
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