[发明专利]沉积设备及将沉积材料沉积在基板上的方法有效
申请号: | 201310486450.1 | 申请日: | 2013-10-17 |
公开(公告)号: | CN103882381B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 金元容;全镇弘 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 刘奕晴,韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种沉积设备以及将沉积材料沉积在基板上的方法,该沉积设备包括真空室;基板,设置在真空室中;沉积源,设置在真空室中并且面对基板,用于将沉积材料提供到基板上;激光振荡器,产生第一激光束;光学单元,连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束,以产生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中,以被设置在基板和沉积源之间。与掩模激光束接触的沉积材料被氧化,而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上。 | ||
搜索关键词: | 沉积 设备 材料 基板上 方法 | ||
【主权项】:
一种沉积设备,所述沉积设备包括:真空室;基板,设置在真空室中;沉积源,设置在真空室中并且面对基板,用于将沉积材料提供到基板上;激光振荡器,产生第一激光束;以及光学单元,连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束,以产生多束掩模激光束,其中,掩模激光束照射到真空室中以被设置在基板和沉积源之间,与掩模激光束接触的沉积材料被氧化,而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上,其中,掩模激光束用作执行沉积工艺的掩模。
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