[发明专利]分布反馈式激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310498595.3 申请日: 2013-10-22
公开(公告)号: CN103545711A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 王火雷;米俊萍;于红艳;丁颖;王宝军;边静;王圩;潘教青 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12;H01S5/125
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种分布反馈式激光器及其制备方法。该分布反馈式激光器包括:N型GaAs衬底;以及依次沉积于N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下限制层、有源区、P型AlGaAs上限制层。其中,P型AlGaAs上限制层经刻蚀形成其至少一侧具有边墙光栅的脊形波导。本发明分布反馈式激光器中,由于将光栅刻蚀在脊形波导的侧面,从而可以一次性外延所有层,AlGaAs材料不会暴露在空气中,从而不会产生Al氧化问题,进而可有效提高激光器的功率和寿命。
搜索关键词: 分布 反馈 激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种分布反馈式激光器,其特征在于,包括:N型GaAs衬底;以及依次沉积于所述N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下限制层、有源区、P型AlGaAs上限制层;其中,所述P型AlGaAs上限制层经刻蚀形成其至少一侧具有边墙光栅的脊形波导。
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