[发明专利]分布反馈式激光器及其制备方法有效
申请号: | 201310498595.3 | 申请日: | 2013-10-22 |
公开(公告)号: | CN103545711A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 王火雷;米俊萍;于红艳;丁颖;王宝军;边静;王圩;潘教青 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/12 | 分类号: | H01S5/12;H01S5/125 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹玲柱 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种分布反馈式激光器及其制备方法。该分布反馈式激光器包括:N型GaAs衬底;以及依次沉积于N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下限制层、有源区、P型AlGaAs上限制层。其中,P型AlGaAs上限制层经刻蚀形成其至少一侧具有边墙光栅的脊形波导。本发明分布反馈式激光器中,由于将光栅刻蚀在脊形波导的侧面,从而可以一次性外延所有层,AlGaAs材料不会暴露在空气中,从而不会产生Al氧化问题,进而可有效提高激光器的功率和寿命。 | ||
搜索关键词: | 分布 反馈 激光器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种分布反馈式激光器,其特征在于,包括:N型GaAs衬底;以及依次沉积于所述N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下限制层、有源区、P型AlGaAs上限制层;其中,所述P型AlGaAs上限制层经刻蚀形成其至少一侧具有边墙光栅的脊形波导。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310498595.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。