[发明专利]光学邻近修正模型的获取方法

摘要

一种光学邻近修正模型的获取方法，包括：获取用户目标图形，对所述用户目标图形进行光学邻近修正，获得修正后掩膜版图形；得到修正后掩膜版图形的光强信息；若光学邻近修正模型数据库内不存在与修正后掩膜版图形的光强信息相一致的已有掩膜版图形的光强信息，则将上述修正后掩膜版图形的光强信息、修正后掩膜版图形及其周围相干半径记录入光学邻近修正模型数据库。如此，采用光强信息比较方式，增加了光学邻近修正模型数据库中的掩膜版图形，对于客户新的电路设计图形，数据库可以实现完全覆盖。

主权项

1.一种光学邻近修正模型的获取方法，其特征在于，包括：获取用户目标图形，对所述用户目标图形进行光学邻近修正，获得修正后掩膜版图形；得到修正后掩膜版图形的光强信息；所述修正后掩膜版图形的光强信息包括：修正后掩膜版图形各片段的空间光强分布曲线在光刻胶曝光参考阈值处的斜率、在第一空间范围内的光强最大值、光强最小值；若光学邻近修正模型数据库内不存在与修正后掩膜版图形的光强信息相一致的已有掩膜版图形的光强信息，则将上述修正后掩膜版图形的光强信息、修正后掩膜版图形及其周围相干半径记录入所述光学邻近修正模型数据库；其中，所述已有掩膜版图形的光强信息包括：已有掩膜版图形各片段的空间光强分布曲线在光刻胶曝光参考阈值处的斜率、在第一空间范围内的光强最大值、光强最小值。