[发明专利]一种离子注入机的均匀性校正控制系统无效
| 申请号： | 201310507612.5 | 申请日： | 2013-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN104576275A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 姜翼展 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入机的均匀性校正控制系统，该系统包括(1)剂量控制器(2)离子束扫描系统(3)电机控制器(4)移动靶台(5)均匀性控制器(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第。说明书对一种离子注入机均匀性矫正控制方法做出了详细说明，并给出具体实施方案。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 均匀 校正 控制系统 | ||
【主权项】：
一种离子注入机的均匀性校正控制系统，该系统包括(1)剂量控制器(2)离子束扫描系统(3)电机控制器(4)移动靶台(5)均匀性控制器(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第。其中，(1)剂量控制器通过SPI与均匀性控制器进行通讯。(5)均匀性控制器中的运动控制器控制(3)电机控制器对移动靶台运动进行调整。(1)剂量控制器通过采集(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第以及(2)离子束扫描系统中束口主剂量杯传送回的束流信号经过分析后，对(2)离子束扫描系统(3)电机控制器发出控制信号，来控制离子注入剂量，注入位置，扫描速度等控制参数。
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