[发明专利]光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物,包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310513127.9 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN103787923A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: E·阿卡达;C-B·徐;刘骢;李明琦;山田晋太郎 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: C07C303/32 分类号: C07C303/32;C07C309/12;C07C309/17;C07C381/12;G03F7/09;G03F7/00;G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 项丹
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物,包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法。本发明涉及一种式(I)的化合物:其中,a、x、X1、Y、Ar、R1和Z-如本文所定义。所述光致生酸剂化合物可用作光致抗蚀剂组合物的组分,其进而可用于制造制品的光刻方法。
搜索关键词: 光致生 酸化 包含 光致抗蚀剂 组合 制品 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种式(I)的化合物:其中a是1-10的整数,x是1-3的整数,X1包括氟代醇、氟化的酯或者氟化的酸酐,Y是单键、C1-20亚烷基、O、S、NR、酯、碳酸酯、磺酸酯、砜或者磺酰胺,其中R是H或C1-20烷基,并且其中C1-20亚烷基在结构上仅有碳,或者C1-20亚烷基中的一个或多个结构碳原子被氧、羰基、酯或者包括前述至少一种的组合所替换,Ar是取代或未取代的C5或更高级的单环、多环或稠合多环环烷基;或者取代或未取代的C5或更高级的单环、多环或稠合多环芳基;其中所述环烷基或芳基是碳环或包含杂原子,所述杂原子包括O、S、N、F或包括前述至少一种的组合,每个R1分别独立地是取代的C5-40芳基、取代的C5-40杂芳基、C1-40烷基、C3-40环烷基,其中,当x是1时,两个基团R1分离或相互连接形成C4-40环结构,以及Z-是羧酸酯、硫酸酯、磺酸酯、氨基磺酸酯、或者磺酰亚胺的阴离子,其中当Y是单键时,Z-不是磺酸酯。
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