[发明专利]等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法有效

专利信息
申请号: 201310523027.4 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN103796408B 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: S.N.帕尔瓦迪;D.S.P.巴拉;R.库马 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24;H05H1/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 肖日松,谭祐祥
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法。更具体而言,一种等离子体生成装置组件包括基体,该基体包括内部和顶表面,顶表面限定延伸穿过该顶表面的多个孔口。等离子体生成装置组件还包括等离子体生成装置和多个联接部件。等离子体生成装置定位于顶表面上,并且配置成在等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体。多个联接部件延伸穿过多个孔口,并且配置成将等离子体生成装置联接到顶表面。
搜索关键词: 等离子体 生成 装置 组件 电弧 缓解 组装 方法
【主权项】:
一种等离子体生成装置组件,包括:基体,其包括内部和顶表面,该顶表面限定延伸穿过所述顶表面的多个孔口;等离子体生成装置,其定位于所述顶表面上,所述等离子体生成装置配置成在所述等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体;以及多个联接部件,其延伸穿过所述多个孔口并且配置成将所述等离子体生成装置联接到所述顶表面;所述基体包括帽盖和基座,所述帽盖密封地联接到所述基座,使得在所述帽盖被联接到所述基座时,靠近所述等离子体生成装置的气体被防止流入所述基座内。
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