[发明专利]多晶硅电子束熔炼过程中减少硅液飞溅的方法有效
申请号: | 201310526886.9 | 申请日: | 2013-10-30 |
公开(公告)号: | CN103570024A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 王登科;姜大川;谭毅 | 申请(专利权)人: | 青岛隆盛晶硅科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266234 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明属于电子束熔炼领域,特别涉及一种多晶硅电子束熔炼过程中减少硅液飞溅的方法。包括备料、抽真空、预处理和熔炼,在预处理之后,继续进行下述步骤:(1)调节电子束束流,加热使硅料开始熔化;(2)调节电子束束斑沿着坩埚内壁上沿向坩埚圆心做螺旋移动,电子束束斑运动到坩埚圆心后,做反向螺旋移动;重复本次螺旋运动;(3)电子束束斑运动结束后,进行电子束熔炼。本发明的显著效果是能够减少硅液飞溅所带来的硅料损失,减少对真空腔内的烧蚀,避免由硅液飞溅引起的真空腔内压强骤变,从而带来的电子枪停机的隐患,工艺更加简单且易于操作。 | ||
搜索关键词: | 多晶 电子束 熔炼 过程 减少 飞溅 方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅电子束熔炼过程中减少硅液飞溅的方法,包括备料、抽真空、预处理和熔炼,其特征在于在预处理之后,继续进行下述步骤:(1)调节电子束束流,加热使硅料开始熔化;(2)调节电子束束斑沿着坩埚内壁上沿向坩埚圆心做螺旋移动,电子束束斑运动到坩埚圆心后,做反向螺旋移动至坩埚内壁上沿;重复上述螺旋移动;(3)电子束束斑运动结束后,进行电子束熔炼。
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