[发明专利]微光刻投射曝光设备有效

专利信息
申请号: 201310529472.1 申请日: 2008-12-18
公开(公告)号: CN103558738A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 迈克尔.莱;马库斯.德冈瑟;迈克尔.帕特拉;约翰尼斯.万格勒;曼弗雷德.莫尔;达米安.菲奥尔卡;冈杜拉.韦斯 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吴艳
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种微光刻投射曝光设备,包括用来照明物平面中的物场的数个物场点的照明光学部件。就该物场的每一物场点而言,该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳,其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值,且其中该照明光学部件包括多镜阵列,其包括用来调整与该这些物场点相关的出射光瞳中强度分布的多个镜。该照明光学部件进一步包含至少一光学系统,用来在时间上稳定该多镜阵列的照明,使得对于每一物场点,在外和/或内σ上,该相关出射光瞳中的第一调整强度分布相对于在该相关出射光瞳中的第二调整强度分布偏离了小于0.1。
搜索关键词: 微光 投射 曝光 设备
【主权项】:
一种微光刻投射曝光设备,包括:‑照明物平面(7)中物场的物场点的照明光学部件,其中‑‑对于物场的每一物场点,该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳,其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值,以及其中‑‑该照明光学部件包括多镜阵列(38),所述多镜阵列包括调整与这些物场点相关的出射光瞳中的强度分布的多个镜,‑将该物场成像在像平面中的像场上的投射光学部件(8),其特征在于:该照明光学部件包含至少一个光学系统(32),用来在时间上稳定该多镜阵列(38)的照明,使得对于每一物场点,在外和/或内σ上,该相关出射光瞳中的第一调整强度分布相对于在该相关出射光瞳中的第二调整强度分布偏离了小于0.1,对于所有物场点,与一物场点相关的出射光瞳的最大边缘角值sin(γ)大于0.2,所述设备在光源(1)与该多镜阵列(38)之间具有照明光线的照明光束(121,122),该光学系统通过在该多镜阵列(38)上照明光束(121,122)的照明光线的叠加而进行该多镜阵列(38)的照明的时间上稳定化,其中该光学系统(32)配置以在该多镜阵列(38)上产生该照明光束(121,122)的该照明光线的不相干叠加,所述设备在光源与该多镜阵列(38)之间具有光轴,且该照明光束(121,122)的照明光线在该光源(1)与该多镜阵列(38)之间的垂直于该光轴的平面中具有相关于该光轴的高度,其中该照明光线的相位延滞作为相对于该光轴的该照明光线的高度的函数被引入,该照明光线的该相位延滞由配置在该光源与该多镜阵列(38)之间的透明光学相位元件(33a)产生,并且该光学系统包括具有第一蜂巢通道板和第二蜂巢通道板的蜂巢式聚光器(32),其中所述光学相位元件(33a)配置在所述第一和第二蜂巢通道板之间。
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