[发明专利]一种覆盖优化中问题区域的生成方法及装置有效
| 申请号： | 201310534606.9 | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN104602271B | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 岳军;陶琳 | 申请（专利权）人： | 中国移动通信集团设计院有限公司 |
| 主分类号： | H04W24/02 | 分类号： | H04W24/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种覆盖优化中问题区域的生成方法及装置。本发明属于无线通信技术领域。所述覆盖优化中问题区域的生成方法，包括：获取覆盖优化中的采样点信息；将所述采样点信息进行栅格汇总；根据所述栅格汇总生成问题区域图层。上述方案解决了利用采样点统计时可能出现的重复判定或者漏判问题，通过对采样点信息进行栅格汇总处理，能够精确生成问题区域，并且能够直观的进行区域边界的GIS渲染，方便了技术人员快速的定位问题区域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 覆盖 优化 问题 区域 生成 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种覆盖优化中问题区域的生成方法，其特征在于，包括：获取覆盖优化中的采样点信息；将所述采样点信息进行栅格汇总；根据所述栅格汇总生成问题区域图层；其中，所述根据所述栅格汇总生成问题区域图层的步骤包括：筛选所述栅格汇总生成存在覆盖问题的栅格集；将所述存在覆盖问题的栅格集进行分类合集，生成问题区域集；对所述问题区域集中的每个问题区域中的栅格索引所确定的栅格区域范围进行区域外扩；根据所述外扩的栅格索引生成栅格图层；根据栅格索引值合并所述栅格图层生成问题区域图层；其中，所述生成问题区域集的具体方法为：对于存在覆盖问题的栅格集，如果两个栅格中心间距小于或等于X个第一栅格精度，则判定这两个栅格属于同一个问题区域，其中，X为大于1的常数；所述对所述问题区域集中的每个问题区域中的栅格索引所确定的栅格区域范围进行区域外扩的步骤具体为：外扩后的归一化MGRS经度东偏置＝归一化MGRS经度东偏置‑((X‑1)/2)*第一栅格精度‑Y；外扩后的归一化MGRS经度北偏置＝归一化MGRS经度北偏置‑((X‑1)/2)*第一栅格精度‑Y；第二栅格精度＝X*第一栅格精度+2*Y；其中X为问题区域判定规则中的大于1的栅格边长数，Y的取值为大于0的常量。
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