[发明专利]一种合成半导体金刚石单晶的催化剂生产方法无效
申请号: | 201310539133.1 | 申请日: | 2013-11-04 |
公开(公告)号: | CN103801350A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 熊科学 | 申请(专利权)人: | 熊科学 |
主分类号: | B01J27/22 | 分类号: | B01J27/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315194 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种合成半导体金刚石单晶的催化剂的生产方法,包括以下步骤:按各材料的组成比例选料,并分别进行球磨粉碎末;用氢气保护处理后进行二次球磨粉末;按比例混料后轧制成片状结构;把片状结构在烧结炉中保护气氛加热,进行低温烧结,在保护气氛下进行二次轧制,去除片状催化剂的表面,除去污染物和氧化膜;真空包装。与常规使用的镍基催化剂相比,原材料和制造成本大幅度下降。 | ||
搜索关键词: | 一种 合成 半导体 金刚石 催化剂 生产 方法 | ||
【主权项】:
一种合成半导体金刚石单晶的催化剂的生产方法,其特征在于:包括以下步骤:1)按各材料的组成比例选料,其组成按重量百分比为,20‑25%的镍7‑10%的石墨、1.2‑1.5%的锰、0.3‑0.5%的铜、硼铁合金0.5‑0.8%、碳化硼0.5‑1.2%,余量为铁;所述硼铁合金与碳化硼的重量比为2∶3;并分别进行球磨粉碎成200‑300目粉末;2)用氢气保护在380℃处理8小时后进行二次球磨成低于150目的粉末;3)按比例混料后在300‑450Mpa下轧制成0.1‑0.5mm的片状结构;4)把粉末轧制的薄带在烧结炉中通入保护气氛加热,进行850~1000℃的低温烧结,保温时间不少于4小时后在保护气氛下进行二次轧制,压制压力为500‑650Mpa;5)去除片状催化剂的表面,除去污染物和氧化膜;6)真空包装。
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