[发明专利]氧化铟锡图案曝光装置有效
| 申请号： | 201310547903.7 | 申请日： | 2013-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103926808B | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 行田道知;浅见正利 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/42 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化铟锡图案曝光装置，其能够防止干涉条纹的产生，良好地保持膜标记的图像识别。在膜掩模（1）的与膜标记（60）对应的位置形成有掩模孔（2），膜掩模（1）被切开而开出孔。掩模孔（2）的尺寸充分大于膜标记（60）的尺寸，由于该掩模孔（2），不会在膜标记（60）的上部发生膜掩模（1）和掩模架（3）的贴合，不会在标记上产生干涉条纹。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 图案 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种氧化铟锡图案曝光装置，其具备：膜掩模，所述膜掩模描绘有待曝光的电路图案；和掩模架，所述掩模架具有支承该膜掩模的透明体，该氧化铟锡图案曝光装置在具有待形成所述电路图案的氧化铟锡膜的透明膜上进行曝光，其特征在于，所述氧化铟锡图案曝光装置具有：对位用的膜标记，其具有在所述透明膜上设置的氧化铟锡膜；掩模孔，其比所述膜标记大，所述掩模孔设在所述膜掩模的与所述膜标记对应的位置；以及对位用的掩模标记，其设在该掩模孔的周围。
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