[发明专利]纳米压印结合湿法刻蚀在曲面上制备金属图案的方法

摘要

本发明公开了一种纳米压印结合湿法刻蚀在曲面上制备金属图案的方法。该方法首先在曲面上蒸镀一层金属，然后在金属上通过转移的方法压印图案，通过反应离子刻蚀的方法刻去残余层后，以压印胶为掩膜对金属进行刻蚀至基底，再用反应离子刻蚀除去金属图案上层的压印胶，得到金属图案。本发明简单易行，既可以在平面上替代举离工艺制备金属图案，比之常用的举离工艺更不易破坏图形的完整性并减少缺陷的发生；又可以在曲面上制备制备金属图案，而在曲面上制备图案是举离工艺无法实现的。本发明在制造布拉格光纤光栅、折/衍混合光学元件、纳机电系统等领域具有广阔的应用前景。

主权项

纳米压印结合湿法刻蚀在曲面上制备金属图案的方法，其特征在于，具体步骤如下：1）首先将曲面材料表面用去离子水清洗干净，干燥后通过电子束蒸镀或磁控溅射的方法在曲面材料上蒸镀一层金属薄膜；2）在洁净硅片表面旋涂一层紫外固化压印胶；3）将柔性纳米压印模板覆盖于旋涂好的压印胶上，过1‑5分钟后将其覆盖于步骤1）制备的镀有金属的曲面上，并紫外固化；4）压印胶固化后将表面的压印软模板移去，则获得曲面上的聚合物压印结构，在压印结构之下有一层均匀的金属薄膜；5）采用氧等离子体进行反应离子刻蚀，除去压印胶；6）在腐蚀液中以固化聚合物为掩膜进行湿法刻蚀；7）以氧等离子进行反应离子刻蚀，除去固化的聚合物，从而在曲面上得到金属图形。