[发明专利]一种用于化学法制备镀钯铜键合丝的镀钯液无效
申请号: | 201310559432.1 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN103556140A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 周晓光;杜连民;向翠华;苏宏福;陈彪 | 申请(专利权)人: | 北京达博有色金属焊料有限责任公司 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44 |
代理公司: | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人: | 李子健;李迎春 |
地址: | 100012*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学法制备镀钯铜键合丝的镀钯液。该镀钯液中给成分的浓度为PdCl的浓度为6~27g/L、NaH2PO2的浓度为10~20g/L、NH4OH的浓度为100~160ml/L、NH4Cl的浓度为10~60g/L。采用本发明的镀钯液对键合丝进行化学镀钯液,其生产出的丝材性能十分良好、稳定,可以满足高端封装领域对丝材性能质量的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 法制 备镀钯铜键合丝 镀钯液 | ||
【主权项】:
一种用于化学法制备镀钯铜键合丝的镀钯液,其特征在于,所述镀钯液中给成分的浓度为PdCl的浓度为6~27g/L、NaH2PO2的浓度为10~20g/L、NH4OH的浓度为100~160ml/L、NH4Cl的浓度为10~60g/L。
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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