[发明专利]彩膜基板及其制备方法有效
申请号: | 201310566686.6 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN103605231A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 肖宇;吴洪江;黎敏;姜晶晶;董明;冯贺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及液晶显示技术领域,公开了一种彩膜基板及其制备方法。该彩膜基板的黑矩阵和隔垫物由制备带通滤光层的膜层形成,大大简化了彩膜基板的制备工艺,降低了生产成本。同时,由于带通滤光层和黑矩阵同时形成,带通滤光层不再搭接在黑矩阵上,从而不会出现角断差区域,形成在黑矩阵上的隔垫物也不会由于基底不平坦而出现变形问题。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板的制备方法,包括在一衬底基板上形成黑矩阵、多个带通滤光层和多个隔垫物的步骤,所述黑矩阵限定多个亚像素区域,所述带通滤光层位于对应的亚像素区域内,透射特定颜色的光线,所述隔垫物位于黑矩阵所在的区域内,其特征在于,形成透射特定颜色光线的带通滤光层的步骤包括:在衬底基板上形成透射所述特定颜色光线的带通滤光膜层;图形化所述带通滤光膜层,形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案,并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构,所述凸起结构对应隔垫物所在的区域;透射不同颜色光线的多个亚滤光层叠层形成所述黑矩阵;透射不同颜色光线的多个凸起结构叠层形成所述隔垫物。
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