[发明专利]存储器阵列结构与其操作方法与制造方法在审

专利信息
申请号: 201310567342.7 申请日: 2013-11-13
公开(公告)号: CN104637520A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C7/18 分类号: G11C7/18;H01L23/522;H01L23/528;H01L21/768
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种存储器阵列结构与其操作方法与制造方法。该存储器阵列结构包括一环形电路图案、一阵列区以及一接触区;环形电路图案包括多条字线;阵列区包括一第一阵列、一第二阵列及多条位线;第一阵列包括一部分字线、一第一接地选择线与一第一串行选择线,第一接地选择线与第一串行选择线位于字线的两侧;第二阵列包括另一部分字线、一第二接地选择线与一第二串行选择线,第二接地选择线与第二串行选择线位于字线的两侧;位线位于第一阵列与第二阵列并跨越第一阵列与第二阵列;接触区具有多个接触点,字线透过些接触点与一外部电路电性连接。
搜索关键词: 存储器 阵列 结构 与其 操作方法 制造 方法
【主权项】:
一种存储器阵列结构,包括:一环形电路图案,包括多条字线,其中每该字线为环形;一阵列区,包括一第一阵列,包括一部分这些字线、一第一接地选择线与一第一串行选择线,该第一接地选择线与该第一串行选择线位于这些字线的两侧;一第二阵列,包括另一部分这些字线、一第二接地选择线与一第二串行选择线,该第二接地选择线与该第二串行选择线位于这些字线的两侧;及多条位线,位于该第一阵列与该第二阵列并跨越该第一阵列与该第二阵列;以及一接触区,具有多个接触点,其中这些字线透过这些接触点与一外部电路电性连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司;,未经旺宏电子股份有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310567342.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top