[发明专利]一种制备金刚石薄膜的简单装置无效
申请号: | 201310567348.4 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN103643218A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 秦文锋;李学军;杨文志 | 申请(专利权)人: | 中山市创科科研技术服务有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/50 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 吴剑锋 |
地址: | 528400 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备金刚石薄膜的简单装置,包括有反应室,其特征在于:在所述的反应室下方设有气体入口,在所述反应室内与所述气体入口对应的位置上设有阴极,在所述的阴极上设有多个透气孔,在所述阴极上方设有水冷阳极,基片设置在水冷阳极上,所述的水冷阳极与阴极通过导线相连接。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种结构简单,制作方便,生产成本低,用于制备金刚石薄膜的简单装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 金刚石 薄膜 简单 装置 | ||
【主权项】:
一种制备金刚石薄膜的简单装置,包括有反应室(1),其特征在于:在所述的反应室(1)下方设有气体入口(2),在所述反应室(1)内与所述气体入口(2)对应的位置上设有阴极(3),在所述的阴极(3)上设有多个透气孔(4),在所述阴极(3)上方设有水冷阳极(5),基片(6)设置在水冷阳极(5)上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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