[发明专利]定影装置和成像设备有效
申请号: | 201310570982.3 | 申请日: | 2013-09-10 |
公开(公告)号: | CN103676581A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 田卷俊太郎;关贵之;荒井裕司;山口嘉纪;池渊丰;斋藤一哉;岩谷直毅;下川俊彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G15/20 | 分类号: | G03G15/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张祥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种定影装置(20),包括:可旋转的定影构件(21);加热源(23),构造为加热定影构件(21);相对构件(22),构造为接触定影构件(21)的外圆周表面以形成辊隙部(N);和屏蔽构件(27),构造为阻隔来自加热源(23)的热量。屏蔽构件(27)构造为围绕不同于加热源(23)中心的位置旋转,以便在屏蔽位置和回缩位置之间可移动。屏蔽位置是屏蔽构件接近加热源(23)以阻隔来自加热源(23)的热量到达定影构件(21)的位置。回缩位置是屏蔽构件(27)回缩到远离屏蔽位置的位置。 | ||
搜索关键词: | 定影 装置 成像 设备 | ||
【主权项】:
一种定影装置(20),包括:可旋转的定影构件(21);加热源(23),构造为加热定影构件(21);相对构件(22),构造为接触定影构件(21)的外圆周表面以形成辊隙部(N);以及屏蔽构件(27),构造为阻隔来自加热源(23)的热量,其中屏蔽构件(27)构造为围绕与加热源(23)的中心不同的位置旋转,以便可以在屏蔽位置和回缩位置之间移动,屏蔽位置是屏蔽构件接近加热源(23)以阻隔来自加热源(23)的热量到达定影构件(21)的位置,回缩位置是屏蔽构件(27)回缩到远离屏蔽位置的位置。
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