[发明专利]一种PNPN型ESD保护器件及ESD保护电路有效

专利信息
申请号: 201310573080.5 申请日: 2013-11-15
公开(公告)号: CN103545310A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 陶园林 申请(专利权)人: 上海贝岭股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 代理人: 章蔚强
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种PNPN型ESD保护器件和ESD保护电路,保护器件包括P型衬底,P型衬底内设有N型埋层,N型埋层上注有深N阱,深N阱内注有第一N+区、第一P+区、第二N+区和低压P阱,低压P阱内注有N型漂移区和第二P+区,N型漂移区内注有第三N+区;P型衬底、深N阱和低压P阱上均覆盖有氧化隔离层;第二N+区横跨在低压P阱的左边边界上,具有较高的正向击穿电压和更高的反向击穿电压。保护电路包括至少两个正、反接于被保护芯片端口和地端的上述ESD保护器件,可实现该被保护接口到地端的双向ESD保护电路。
搜索关键词: 一种 pnpn esd 保护 器件 电路
【主权项】:
一种PNPN型ESD保护器件,其特征在于,包括P型衬底(116),所述P型衬底(116)内设有N型埋层(102),N型埋层(102)上注有深N阱(101),所述深N阱(101)内注有第一N+区(104)、第一P+区(105)、第二N+区(106)和低压P阱(103),所述低压P阱(103)内注有N型漂移区(109)和第二P+区(108),所述N型漂移区(109)内注有第三N+区(107),其中:所述P型衬底(116)、深N阱(101)和低压P阱(103)上均覆盖有氧化隔离层(112);所述第二N+区(106)横跨在所述深N阱(101)内低压P阱(103)的左边边界上。
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