[发明专利]一种PNPN型ESD保护器件及ESD保护电路有效
申请号: | 201310573080.5 | 申请日: | 2013-11-15 |
公开(公告)号: | CN103545310A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 陶园林 | 申请(专利权)人: | 上海贝岭股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人: | 章蔚强 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种PNPN型ESD保护器件和ESD保护电路,保护器件包括P型衬底,P型衬底内设有N型埋层,N型埋层上注有深N阱,深N阱内注有第一N+区、第一P+区、第二N+区和低压P阱,低压P阱内注有N型漂移区和第二P+区,N型漂移区内注有第三N+区;P型衬底、深N阱和低压P阱上均覆盖有氧化隔离层;第二N+区横跨在低压P阱的左边边界上,具有较高的正向击穿电压和更高的反向击穿电压。保护电路包括至少两个正、反接于被保护芯片端口和地端的上述ESD保护器件,可实现该被保护接口到地端的双向ESD保护电路。 | ||
搜索关键词: | 一种 pnpn esd 保护 器件 电路 | ||
【主权项】:
一种PNPN型ESD保护器件,其特征在于,包括P型衬底(116),所述P型衬底(116)内设有N型埋层(102),N型埋层(102)上注有深N阱(101),所述深N阱(101)内注有第一N+区(104)、第一P+区(105)、第二N+区(106)和低压P阱(103),所述低压P阱(103)内注有N型漂移区(109)和第二P+区(108),所述N型漂移区(109)内注有第三N+区(107),其中:所述P型衬底(116)、深N阱(101)和低压P阱(103)上均覆盖有氧化隔离层(112);所述第二N+区(106)横跨在所述深N阱(101)内低压P阱(103)的左边边界上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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