[发明专利]防污层除去方法及防污层形成方法有效
| 申请号： | 201310573477.4 | 申请日： | 2013-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN103817111B | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 森田金市 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社;崇越电通股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请所涉及的发明提供防污层除去方法及防污层形成方法，其是仅在对象构件的表面的特定区域形成防污层的优良的技术。上述防污层除去方法及防污层形成方法包括浸渍在防污涂布剂溶液（21）中，进行养生工序，由此在对象构件（1）的整个表面上形成防污层（10），然后将对象构件（1）配置在相对湿度为50%以上的水蒸气气氛下，在该状态下仅对对象构件（1）的表面上的非选择区域照射真空紫外线（L）。将非选择区域的防污层（10）除去，得到仅在选择区域形成有防污层（10）的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 防污 除去 方法 形成 | ||
【主权项】：
一种防污层除去方法，其是将通过氟系防污涂布剂在对象构件的表面上形成的防污层从该对象构件上除去的防污层除去方法，其特征在于，将形成有防污层的对象构件配置在相对湿度为50％以上的水蒸气气氛下，在该状态下对露出在所述水蒸气气氛中的防污层的表面照射真空紫外光，由此除去防污层。
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