[发明专利]一种螺旋光纤光栅的刻写装置无效
申请号: | 201310590046.9 | 申请日: | 2013-11-20 |
公开(公告)号: | CN103605180A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 张晓强;王安廷;林中晰;许立新 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G03F7/20 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;孟卜娟 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开一种螺旋光纤光栅的刻写装置,其结构包括:紫外光源(101)、准直聚焦透镜(102)、掩模板(103)、电机控制系统,其中电机控制系统主要由旋转电机和前进电机组成。本发明可以刻写布拉格型螺旋光纤光栅和长周期螺旋光纤光栅,利用刻写的螺旋光纤光栅能够产生涡旋光束和对光束的偏振控制。该发明的结构明晰,稳定性高,制作简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 螺旋 光纤 光栅 刻写 装置 | ||
【主权项】:
1.一种螺旋光纤光栅的刻写装置,其特征在于:其结构由紫外光源(101)、准直聚焦透镜(102)、掩模板(103)、旋转电机(105)和前进电机(106)组成,紫外光源(101)产生的紫外光,经过准直聚焦透镜(102)后照射到掩模板(103)上,当采用相位掩模板刻写短周期布拉格螺旋光栅时,透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射,衍射光形成的干涉光对被刻写的光纤(104)进行曝光;当采用振幅型掩模板刻写长周期螺旋光栅时,掩模板上透光部分直接在光纤(104)上进行曝光;刻写采用的是单面曝光技术,刻写具有一定的深度(107),刻写的过程中旋转电机(105)带动光纤旋转,旋转电机(105)能够向两个方向旋转,前进电机(106)带动光纤向前移动,调节两个电机的周期,使光纤在前进一个刻写周期Λ的同时,光纤旋转一周,这样就能够将光纤刻写成具有一定深度的螺旋型,用v表示前进电机带动光纤前进的速率,ω表示旋转电机旋转带动光纤旋转的角速度大小,∧表示所要刻写的光栅的周期,它们之间的关系是:
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