[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制作方法有效
申请号: | 201310593671.9 | 申请日: | 2013-11-21 |
公开(公告)号: | CN103681985A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 刘华容;魏世祯;谢文明 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。该外延片包括衬底、生长在衬底上的低温缓冲层、非掺杂的氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,从N型氮化镓层一侧开始的至少一个量子垒层采用AlxGa1-xN生长,0 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底、生长在所述衬底上的低温缓冲层、非掺杂的氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,所述多量子阱层为超晶格结构,所述超晶格结构包括交替生长的量子阱层和量子垒层,其特征在于,从所述N型氮化镓层一侧开始的至少一个量子垒层采用AlxGa1‑xN生长,0
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