[发明专利]有机电激发光二极体储存电容结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310597790.1 申请日: 2013-11-22
公开(公告)号: CN103730450A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 肖丽娜;王焕楠;冯佑雄 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64;H01L21/02;H01L27/32
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 201508 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种有机电激发光二极体储存电容结构及其制备方法,包括在玻璃基板上依次设置的多晶硅层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层、第二金属层以及第三绝缘层,第一金属层与第二金属层相互平行形成第一电容。在第三绝缘层上设有第三金属层,第三金属层与第二金属层相互平行形成第二电容,第二绝缘层与第三绝缘层对应第一金属层与第三金属层位置形成有接触洞,第二金属层形成有用于避开接触洞的避让区域,第三金属层与第一金属层通过接触洞接触导通,从而形成第一电容与第二电容的并联连接。通过在第一电容上增加一第三金属层,使其与第二金属层构成第二电容,通过接触洞使得第二电容与第一电容并联,即减小电容面积,还可维持电容容量。
搜索关键词: 机电 激发 二极体 储存 电容 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种有机电激发光二极体储存电容结构,包括在玻璃基板上依次设置的一多晶硅层、一第一绝缘层、一第一金属层、一第二绝缘层、一第二金属层以及一第三绝缘层,所述第一金属层与所述第二金属层相互平行形成一第一电容,其特征在于:在所述第三绝缘层上设有一第三金属层,所述第三金属层与所述第二金属层相互平行形成一第二电容,所述第二绝缘层与所述第三绝缘层对应所述第一金属层与所述第三金属层位置形成有接触洞,所述第二金属层形成有用于避开所述接触洞的避让区域,所述第三金属层与所述第一金属层通过所述接触洞接触导通,从而形成所述第一电容与所述第二电容的并联连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310597790.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top