[发明专利]一种栅控碳纳米管/碳纤维场发射阵列阴极及其制作方法在审
申请号: | 201310599290.1 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN104658828A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 鞠洪建 | 申请(专利权)人: | 大连惟康科技有限公司 |
主分类号: | H01J1/304 | 分类号: | H01J1/304;H01J9/02 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 116014 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种栅控碳纳米管/碳纤维场发射阵列阴极及其制作方法,属于真空微电子领域,包括一块导电基板,基板上沉积有绝缘层,绝缘层上具有一层金属导电层,层面上,穿过绝缘层形成阵列圆孔型控制栅,在圆孔中心基板面上催化剂所处的位置点上生长出直立的碳纳米管/碳纤维,一直到达金属导电层上控制栅中心高度;其制作方法,按六个流程步骤顺序进行,该方法能生长出高宽比大、细高形状的碳纳米管,所构成的场发射阴极发射稳定,由于碳纳米管的化学稳定性比金属好,受工作环境影响小,同时域值电压低,而且碳纳米管的制造工艺和设备都比较简单,故生产成本可大幅度下降。 | ||
搜索关键词: | 一种 栅控碳 纳米 碳纤维 发射 阵列 阴极 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种栅控碳纳米管/碳纤维场发射阵列阴极,其特征在于:包括一块作为阴极的导电基板,基板上沉积有绝缘层,在所述绝缘层上具有一层金属导电层,层面上,穿过绝缘层形成阵列圆孔型控制栅,其特征在于,在圆孔中心催化剂所处的位置点上生长出直立的碳纳米管,其生长高度可一直到达金属导电层上控制栅中心的位置。
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