[发明专利]磷掺杂硅片、其制作方法、太阳能电池片及其制作方法有效
申请号: | 201310610878.2 | 申请日: | 2013-11-26 |
公开(公告)号: | CN103606596A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 范志东;马继奎 | 申请(专利权)人: | 英利集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0288;C30B31/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种磷掺杂硅片、其制作方法、太阳能电池片及其制作方法。磷掺杂硅片的制作方法包括升温待掺杂硅片、前净化、磷沉积扩散以及降温的步骤,磷沉积扩散步骤采用POCl3作为磷源使其与O2反应分步沉积扩散,在分步沉积扩散步骤中POCl3与O2的体积比呈递减的方式进行。采用分步沉积扩散工艺在开始阶段扩散速度较快,随着硅片表面的磷向硅片衬底内部扩散,硅片表面磷浓度逐步降低,后续随着磷源浓度的降低沉积到硅片衬底表面的磷数量减少,在硅片衬底表面及内部的磷浓度分布相对于目前沉积扩散过程中不断有较大浓度的磷源POCl3补充的情况其杂质浓度梯度大,获得了更好的电学参数,提高了太阳能电池的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 硅片 制作方法 太阳能电池 及其 | ||
【主权项】:
一种硅片的磷掺杂方法,其特征在于,包括升温待掺杂硅片、前净化、磷沉积扩散以及降温的步骤,其中所述磷沉积扩散步骤采用POCl3作为磷源使其与O2反应进行分步沉积扩散,在所述分步沉积扩散的步骤中所述POCl3与所述O2的体积比呈递减的方式进行。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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