[发明专利]一种光学扩散膜片制作方法有效
| 申请号： | 201310611944.8 | 申请日： | 2013-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN104626528B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 李企桓 | 申请（专利权）人： | 逢甲大学 |
| 主分类号： | B29C59/02 | 分类号： | B29C59/02;G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 王晶 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学扩散膜片制作方法，其步骤包括(A)以一刀具刻画一模仁，于模仁表面刻画第一维度方向正交第二維度方向形成具有波峰与波谷格子狀一凹凸结构；(B)将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用一光源曝光固化，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；(C)对膜片进行裁切制成一光学扩散膜片。因此，本发明光学扩散膜片制作方法不仅可制作大面积且低成本的光学扩散结构，光线经过光学扩散膜片时，通过凹凸结构的调控达到光线扩散及均匀化作用，因此使光学扩散膜片同时具有良好的扩散性与光场调控功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 扩散 膜片 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光学扩散膜片制作方法，其步骤包括:A.一刀具刻画一模仁时，于模仁表面刻画第一维度方向正交第二维度方向夹角大于0度且小于90度，形成具有波峰与波谷格子状一凹凸结构，周期为1µm～1m之间，波峰与波谷的深度差在1µm～1mm之间；B.将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用一光源曝光固化，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；C.对膜片进行裁切。
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