[发明专利]测试图形的标记方法和标记装置有效
| 申请号： | 201310612564.6 | 申请日： | 2013-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN104678695B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 王辉;黄宜斌;沈泫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种测试图形的标记方法和标记装置，该标记方法包括：提供测试图形，所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形；确定所述测试图形的待量测点；在所述测试图形上，所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口，每个所述多个开口使得经过该位置的条状图形间断；所述多个开口到所述待量测点的距离相等，并且所述距离至少满足：所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2%。采用本发明的测试图形标记方法，可以比较容易在模拟光刻图形上获得与测试图形的待量测点对应的点，不会因为在原测试图形上设置开口而影响模拟光刻图形的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 图形 标记 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种测试图形的标记方法，其特征在于，包括：提供测试图形，所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形；确定所述测试图形的待量测点；在所述测试图形上，所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口，所述多个开口的每个开口使得经过该位置的条状图形间断；其中，所述多个开口到所述待量测点的距离相等，并且所述距离至少满足：所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2％。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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