[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201310616729.7 | 申请日： | 2013-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN103839748B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 吹野康彦;丸山智久 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够不使用整流壁或自由基消耗量多的牺牲件，而使被处理基板的周边部的反应性降低以进行均匀的等离子体处理的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置具备用于收容基板（G）、对该基板（G）实施等离子体处理的处理容器（2）；在处理容器（2）内载置基板（G）的基板载置台（4）；对处理容器内供给处理气体的处理气体供给机构（20、28）；对处理容器（2）内进行排气的排气机构（30）；作为在处理容器（2）内生成处理气体的等离子体的等离子体源的高频电源（14a）；和向基板载置台（4）上的基板（G）的周边部供给捕获气体的捕获气体供给机构（16、19），该捕获气体捕获等离子体中的活性种。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其对基板实施等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，具备：用于收容基板、对该基板实施等离子体处理的处理容器；在所述处理容器内载置基板的基板载置台；对所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给机构；对所述处理容器内进行排气的排气机构；在所述处理容器内生成所述处理气体的等离子体的等离子体生成单元；和向所述基板载置台上的基板的周边部供给捕获气体的捕获气体供给机构，该捕获气体捕获所述等离子体中的活性种；所述捕获气体供给机构设置于所述基板载置台的基板的周围。
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