[发明专利]基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法有效
申请号: | 201310626314.8 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN104425329A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 陈传宜;游柏清;蓝受龙;陈立凯 | 申请(专利权)人: | 亚智科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67;H01L21/208;H01L31/18;H01L31/20 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法。基板转移暨处理系统包含一基板转移装置、至少一热板装置、一药液装置、一倾斜装置。基板转移装置用来将基板于一输送路径上移动。热板装置设置于输送路径上,用来承载并加热基板。药液装置设置于输送路径上。药液装置被驱动移动至热板装置所承载的基板处。药液装置与基板的上表面形成一封闭空间。于封闭空间提供一药液与基板的上表面接触以产生一化学反应。倾斜装置用来倾斜热板装置、药液装置及基板至一角度。热板装置对基板加热以使基板与药液加速进行化学反应。 | ||
搜索关键词: | 转移 处理 系统 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种基板转移暨处理系统,用来转移与处理一基板,其特征在于,该基板转移暨处理系统包含:一基板转移装置,用来将该基板于一输送路径上移动;至少一热板装置,设置于该输送路径上,用来承载并加热该基板;一药液装置,设置于该输送路径上,该药液装置被驱动移动至该热板装置所承载的该基板处,该药液装置与该基板的上表面形成一封闭空间,在该封闭空间提供一药液与该基板的该上表面接触以产生一化学反应;以及一倾斜装置,用来倾斜该热板装置、该药液装置及该基板至一角度;其中,该热板装置对该基板加热以使该基板与该药液加速进行该化学反应。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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