[发明专利]一种大尺寸图形化衬底的制作方法

摘要

本发明提供的一种大尺寸图形化衬底的制作方法，其利用外延生长时选择性的特点，在衬底长外延前，先采用光刻工艺将衬底表面分割成若干个方格子，而后在分割成的方格子四周用激光划出一定深度的沟道，并将方格子边缘的微小图形包去除干净，大尺寸衬底通过这样的处理后，再进行外延层生长时，外延层被彼此相互隔开，都是在独立的方格子上生长，这样衬底就不会再受到外延层的拉扯应力，从而避免了大尺寸衬底外延生长时翘曲严重问题的发生，进而使外延层衬底受热均匀，光电性能大幅提高。

主权项

一种大尺寸图形化衬底的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)提供一衬底，将其制备成表面具有若干个微小图形包的图形化衬底；2)在所述图形化衬底表面生长一层氧化硅薄膜；3)光刻步骤2）得到的衬底，将其表面分割成若干个方格子，并暴露出所述微小图形包；4)在所述方格子四周形成沟道；5)将暴露出的微小图形包腐蚀掉，使方格子四周表面保持平滑；6)去除所述方格子表面的氧化硅薄膜。