[发明专利]一种可改善P型硅太阳电池电性能的双面扩散方法无效
申请号: | 201310631199.3 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN103646995A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 李静;邢国强;张斌;夏正月 | 申请(专利权)人: | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 刘燕娇 |
地址: | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种太阳电池的双面扩散方法,尤其是一种可改善P型硅太阳电池的电性能的双面扩散方法,其具体步骤包括:硅片非受光面磷吸杂、磷硅玻璃去除、硅片受光面磷扩散形成发射极。本发明通过先在硅片非受光面进行磷吸杂再在硅受光面进行磷扩散制作发射极的双面扩散方法,因两个步骤分开进行,使得磷吸杂工艺不会受到制作发射极工艺的制约,实现磷吸杂的吸杂效果以及对硅片表面的钝化效果达到最佳,不仅可大大提高硅片的少子寿命,而且能提高太阳电池的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 太阳电池 性能 双面 扩散 方法 | ||
【主权项】:
一种可改善P型硅太阳电池的电性能双面扩散方法,其特征在于,包括以下步骤:(a)硅片非受光面磷吸杂:选择两片硅片,将两片硅片的受光面紧贴在一起,放入石英舟的卡槽中,把装载硅片的石英舟推进扩散炉管中,通过重掺杂磷使硅片的受光面得到充分的磷吸杂和硅片的非受光面的表面钝化;(b)磷硅玻璃去除:把扩散后的硅片从扩散炉管中推出并将硅片卸入花篮中,采用氢氟酸进行清洗;(c)硅片受光面磷扩散形成发射极:将清洗后的两片硅片的非受光面紧贴一起放入石英舟的卡槽中,再把装载硅片的石英舟推进扩散炉管中,采用轻掺杂磷的扩散工艺制作发射极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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