[发明专利]GaN基高电子迁移率晶体管的低温无金欧姆接触的制作方法无效
| 申请号： | 201310632276.7 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103606516A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 黄森;刘新宇;王鑫华;魏珂;刘果果;章晋汉;郑英奎;陈向东;张昊翔;封飞飞;万远涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;杭州士兰微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/28 | 分类号： | H01L21/28 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种GaN基高电子迁移率晶体管的低温无金欧姆接触的制作方法，包括：在GaN基高电子迁移率晶体管外延片上涂覆光刻胶，并光刻形成欧姆接触图形；利用低损伤刻蚀技术从欧姆接触图形的开孔区域刻蚀减薄GaN基HEMT的势垒层；对刻蚀区域进行湿法表面处理，并在处理后的外延片上沉积多层无金欧姆金属；剥离GaN基高电子迁移率晶体管外延片表面的光刻胶及该光刻胶之上沉积的多层无金欧姆金属；以及退火形成低温无金欧姆接触。利用本发明，降低了GaN基HEMT的工艺温度，解决了GaN基HEMT与Si-CMOS工艺兼容的技术瓶颈，有助于降低GaN基HEMT的制造成本，加快GaN基功率电子器件的产业化进程。 | ||
| 搜索关键词： | gan 电子 迁移率 晶体管 低温 欧姆 接触 制作方法 | ||
【主权项】：
一种GaN基高电子迁移率晶体管的低温无金欧姆接触的制作方法，其特征在于，包括：在GaN基高电子迁移率晶体管外延片上涂覆光刻胶，并光刻形成欧姆接触图形；利用低损伤刻蚀技术从欧姆接触图形的开孔区域刻蚀减薄GaN基HEMT的势垒层；对刻蚀区域进行湿法表面处理，并在处理后的外延片上沉积多层无金欧姆金属；剥离GaN基高电子迁移率晶体管外延片表面的光刻胶及该光刻胶之上沉积的多层无金欧姆金属；以及退火形成低温无金欧姆接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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