[发明专利]半导体结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310638285.7 申请日: 2013-12-02
公开(公告)号: CN104681559A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构及其制造方法,该半导体结构包括一第一叠层结构;第一叠层结构包括一第一叠层部、至少一第二叠层部及至少一第三叠层部;第一叠层部沿着一第一方向设置;第二叠层部连接第一叠层部并沿着一第二方向设置,第二方向垂直该第一方向;第三叠层部连接第一叠层部且沿着第一方向与第二叠层部交替排列;第三叠层部在第二方向上的宽度小于第二叠层部在第二方向上的宽度。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体结构,包括:一第一叠层结构,包括:一第一叠层部,沿着一第一方向设置;至少一第二叠层部,连接该第一叠层部并沿着一第二方向设置,该第二方向垂直该第一方向;及至少一第三叠层部,连接该第一叠层部且沿着该第一方向与该第二叠层部交替排列,其中该第三叠层部在该第二方向上的宽度小于该第二叠层部在该第二方向上的宽度。
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