[发明专利]透明导电膜及其制作方法和光学调整层有效

专利信息
申请号: 201310638973.3 申请日: 2013-12-04
公开(公告)号: CN103632755A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 杜成城;刘比尔 申请(专利权)人: 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041
代理公司: 广州市深研专利事务所 44229 代理人: 张喜安
地址: 515078 广东省汕头市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种透明导电膜,其包括依次叠设的基材层、光学调整层、低折射率层和导电层,所述光学调整层的400纳米波长下的折射率为1.55~1.85之间,厚度为500纳米~10000纳米之间,铅笔硬度达1H以上。本发明还提供一种上述光学调整层和该透明导电膜的制作方法。本发明的透明导电膜由于光学调整层的铅笔硬度达1H以上,使整个透明导电膜不易被刮伤;另外,光学调整层的绕曲性达7毫米以下,绕曲性得以提高;光学调整层的膜厚误差在100纳米时对光学b*值的影响小于0.5。
搜索关键词: 透明 导电 及其 制作方法 光学 调整
【主权项】:
一种光学调整层,其特征在于:所述光学调整层的400纳米波长下的折射率为1.55~1.85之间,厚度为500纳米~10000纳米之间,铅笔硬度达1H以上。
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