[发明专利]设有可提高对称性的导气装置的泵以及等离子处理装置

摘要

本发明公开一种用于等离子处理装置的导气装置，其气路连通于泵与反应腔之间；导气装置包含：外壳，其设有上下连通的气道，该气道的上端气路连通反应腔，下端气路连通至泵；中心管道，其设置于外壳内的气道中，该中心管道上端气路连通反应腔，下端封闭；该中心管道内形成中心气道，中心管道与外壳之间形成外层气道；若干分隔结构，其由中心管道侧壁连接至外壳的内侧壁，将外层气道分隔成若干个相互连通的外层子气道，外层子气道气路连通泵。本发明导气装置设有分隔装置，可自补偿反应腔与/或泵中其他的不对称性，从而实现等离子处理装置的整体对称性。

主权项

一种用于等离子处理装置的导气装置，等离子处理装置包含反应腔、设置于反应腔的底部的基座、设置于反应腔下方的下游控制阀，所述下游控制阀的进气口与反应腔气路连通；其特征在于，所述导气装置气路连通于所述下游控制阀与反应腔之间，反应腔的电极区域通过该导气装置进行排气或抽真空工艺；所述导气装置包含：外壳（21），其设有上下连通的气道，该气道的上端气路连通反应腔，下端气路连通至下游控制阀；中心管道（22），其设置于所述外壳（21）内的气道中，该中心管道（22）上端气路连通所述反应腔，下端封闭；该中心管道内形成中心气道（221），中心管道（22）与外壳（21）之间形成外层气道；若干分隔结构（23），其由所述中心管道（22）侧壁连接至所述外壳（21）的内侧壁，将所述外层气道分隔成若干个相互连通的外层子气道（211），外层子气道气路连通下游控制阀；所述下游控制阀包括一横梁，一组分隔结构（23）与所述横梁平行设置，且遮盖在所述横梁上方，避免所述横梁穿过所述外层子气道（211）。