[发明专利]非易失性存储电路有效
申请号: | 201310651672.4 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN103872058B | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 川上亚矢子 | 申请(专利权)人: | 精工半导体有限公司 |
主分类号: | H01L27/11521 | 分类号: | H01L27/11521;H01L29/423;H01L29/788 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供非易失性存储电路,其能够维持写入效率并能够防止误写入。将单侧LOCOS偏置结构的非易失性存储晶体管用作非易失性存储元件,并对与上述非易失性存储元件并联连接的两组开关晶体管进行控制,由此,在写入时使非LOCOS偏置侧成为漏极,在读出时使LOCOS偏置侧成为漏极。在稳定状态(虽然接通了电源,但不进行写入或读出的状态)时,不对非易失性存储元件的源极和漏极之间施加电位。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 存储 电路 | ||
【主权项】:
一种非易失性存储电路,其特征在于,该非易失性存储电路具有开关电路和单侧LOCOS偏置结构的P沟道型非易失性存储器,所述P沟道型非易失性存储器在设于半导体基板的N阱中具有:夹着浮栅而设置的P型的第一源极兼漏极区域和P型的第二源极兼漏极区域,所述P型的第一源极兼漏极区域具有不是LOCOS偏置结构的非LOCOS偏置结构,所述P型的第二源极兼漏极区域具有LOCOS偏置结构;以及控制栅,其隔着设置于所述浮栅的电容耦合用氧化膜进行设置,所述开关电路分别与所述第一源极兼漏极区域和所述第二源极兼漏极区域连接,以切换对所述第一源极兼漏极区域和所述第二源极兼漏极区域施加的电压,所述开关电路对作为电源电压的Vdd和Vss进行切换,在读出时,使所述第二源极兼漏极区域成为漏极而使其电位成为所述Vss,使所述第一源极兼漏极区域成为源极而使其电位成为所述Vdd,在写入时,使所述第一源极兼漏极区域成为漏极而使其电位成为所述Vss,使所述第二源极兼漏极区域成为源极而使其电位成为所述Vdd,使所述控制栅的电位成为所述Vdd和所述Vss之间的电位,即使接通了电源,在未进行写入或读出时,所述开关电路被控制成:对所述第一源极兼漏极区域和所述第二源极兼漏极区域施加相等的电压。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的